Компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) представила новое поколение установок сухой литографии на 9-й Китайской международной выставке импортных товаров.
Разработка стала очередным этапом реализации китайской программы импортозамещения в сфере производства полупроводникового оборудования. Платформа построена на собственной стандартизированной архитектуре и поддерживает два технологических процесса — I-line и KrF. Производитель заявляет о полном контроле над разработкой и поставками ключевых компонентов, включая высокоточные оптические системы, механизмы позиционирования пластин и масок, а также автоматизированные комплексы перемещения материалов.
По утверждению компании, качество сопоставимо с показателями ведущих зарубежных аналогов. Точность совмещения слоев и производительность оборудования также приближаются к международному уровню. При этом установки демонстрируют стабильную работу в различных технологических процессах и подходят для продолжительной эксплуатации на производственных линиях. SMEE сообщает, что ее оборудование уже используется на предприятиях Китая, выпускающих логические микросхемы и микросхемы памяти.
По данным производителя, суммарный объем обработки на таких установках превысил 10 млн кремниевых пластин, а эффективная производительность оборудования составляет более 92%.
Компания SMEE основана в 2002 году и позиционируется как единственный китайский производитель, способный серийно выпускать и поставлять установки сухой литографии.
