Samsung может поручить TSMC выпуск базовых кристаллов для памяти Nvidia — Свежие новости

Samsung может поручить TSMC выпуск базовых кристаллов для памяти Nvidia

Samsung Electronics, по сообщениям южнокорейской газеты Seoul Economic Daily, планирует использовать мощности тайваньской компании TSMC для выпуска базовых кристаллов специализированной памяти NVHBM, разрабатываемой для Nvidia. Речь идёт о применении 3-нм техпроцесса.

Согласно публикации Seoul Economic Daily, Nvidia предложила Samsung, SK hynix и Micron использовать единый технологический процесс для базовых кристаллов, стандартизировав при этом основные кристаллы памяти на базе DRAM шестого поколения. В конструкции высокоскоростной памяти HBM (High Bandwidth Memory) базовый кристалл служит для взаимодействия между слоями памяти и другими компонентами системы. В варианте NVHBM его роль, как сообщается, становится более значимой, что повышает требования к выбору технологии производства.

При этом Samsung, по данным Seoul Economic Daily, после внутреннего рассмотрения согласилась с требованиями Nvidia, но продолжает оценивать возможность выпуска базовых кристаллов на собственных производственных мощностях. Отдельно TrendForce сообщала, что Samsung изучает двухвариантную схему для специализированной памяти HBM: использовать собственное производство базовых кристаллов либо заказывать их у TSMC в зависимости от требований заказчика. Эти сведения согласуются с возможностью привлечения внешнего подрядчика, но не подтверждают конкретную договорённость, о которой сообщили 18 октября.

На данный момент участие TSMC в производстве базовых кристаллов NVHBM для Nvidia остаётся неподтверждённой информацией из отраслевых источников. Не опубликованы и официальные заявления компаний, которые позволили бы установить окончательную схему производства.

Предыдущая новость Секреты учителя: Ирина Белых поделилась опытом с будущими преподавателями начальных классов
Следующая новость Птицы-вампиры существуют на самом деле: чью кровь они пьют

Добавить комментарий

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *