Компания Intel первой на рынке сделала ставку на литографию High-NA EUV (EUV-литография с высокой числовой апертурой), первой запустила массовое производство чипов и теперь, как сообщается, преодолела отметку в 1 млн кремниевых пластин, созданных посредством соответствующих машин.
Если считать с момента установки первой машины на фабриках компании, то на это ушло два года. Однако массовое производство в любом случае стартовало лишь в июле. На текущий момент в распоряжении компании имеется три соответствующих машины ASML: две TWINSCAN EXE:5000 и одна более современная TWINSCAN EXE:5200B.
Также можно отметить, что соответствующее достижение Intel означает, что она обработала больше пластин на машинах High-NA EUV, чем вся остальная отрасль вместе взятая.
